MRP系列磁流体抛光机应用案例一：经济精度修形（1λ RMS→1/70λ RMS，微晶）
• 初始状态：表面为光学面，面形误差1λ RMS左右，无明显瑕疵。
• 最终状态：表面粗糙度小于1nm，面形误差优于1/70λ RMS，疵病等级20/10。
• 工艺过程：磁流变抛光结合小磨头光顺。
•加工时间：600mm口径光学元件，70~90小时在机加工时间。
•典型案例：微晶材料，600mm圆形截面，平面面形，初始面形精度1.034λ RMS，最终面形精度0.015λ RMS，在机加工时间80小时。
