MRP系列磁流体抛光机应用案例二:高精度修形（0.3λ RMS→1/100λ RMS，熔石英）

• 初始状态：表面为传统抛光后亮面，面形误差0.3λ RMS左右，无明显瑕疵。

• 最终状态：表面粗糙度小于1nm，面形误差优于1/100λ RMS，疵病等级20/10。

• 工艺过程：磁流变抛光。

•加工时间：200mm口径光学元件，10~12小时在机加工时间。

•典型案例：微晶材料，200mm圆形截面，二次曲面面形，初始面形精度0.308λ RMS，最终面形精度0.010λ RMS，在机加工时间12小时。